等离子增强原子层沉积系统（ALD）

  • 仪器分类：CVD设备
  • 所属单位：校内 > 萨本栋微米纳米科学技术研究院
  • 放置房间号：洁净室Room1
  • 规格型号：TFS-200-PEALD 
  • 仪器生产商：BENEQ
  • 购置日期：2016-11-01
  • 使用模式：项目委托,按时预约
  • 仪器状态：
仪器生产商:BENEQ
资产编号:1608204G 
资产负责人:----
购置日期:2016-11-01
仪器价格:0.00 万元
仪器产地:芬兰 
仪器供应商:----
购买经办人:----
主要配件:----
主要参数:生长厚度为0.1纳米至50纳米的薄膜
仪器介绍:

 生产厂家：芬兰Beneq

 型号：TFS 200

 生长模式：热法、等离子法

 样品尺寸：8英寸及以下

 前驱体类型：三甲基铝 四氯化钛 四（二甲乙胺基）铪

 生长膜种类：氧化铝、氮化铝、氧化钛、氮化钛、氧化铪


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主要仪器管理员: 蒋书森(电话:13859985697)
仪器管理员: 朋德运维(电话:13812344321)
工作时间:09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段:1 小时
最大可预约时间段:12 小时
日历最小单位:0.5 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 0.1小时； 普通资格用户: 0.1小时； 资深资格用户: 0.1小时
最远提前预约时间: 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间:60 分钟
失约保护时间:60 分钟
断电延时时间:1 秒
最短重上电时间:1 秒
使用超时提醒:120 秒
最大有效预约次数:5 次/天
无代价撤销预约时间:1440 分钟
用户资格 工作时间 非工作时间
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普通资格 免审核 需审核
资深资格 免审核 免审核
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