感应耦合等离子刻蚀机SI 500可广泛应用于从普通反应离子刻蚀RIE到高密度等离子ICP刻蚀工艺,特别适合于刻蚀氧化硅、氮化硅、硅等。SI 500的硬件、软件满足了最前沿的研发需要,同时也满足生产线的高稳定性和可重复性要求。
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