磁控溅射镀膜机

仪器生产商:北京创世威纳科技有限公司

资产编号:S2010382

资产负责人:----

购置日期:2020-09-24

仪器价格:43.80 万元

仪器产地:中国

仪器供应商:----

购买经办人:----

主要配件:----

主要参数:1.极限真空：≤6.7×10-5Pa（环境湿度≤55%）。系统漏率：≤1.0×10-7Pa•L/s。 2.溅射靶：可调角度Φ4英寸标准磁场磁控溅射靶3只，下置安装。 3.溅射不均匀性：≤±5%（Φ6英寸范围内）。≤±6%（Φ8英寸范围内）。 3.工件台旋转：可自转，转速0～30rpm范围内可调。 4.样品加热：红外加热器，加热温度600℃，控温精度±1%。 5.工位数与样品数量：最大Φ8英寸1片或小样片数片。

仪器介绍:

该设备通过直流溅射及射频溅射方式进行镀膜，可以实现各种金属、合金薄膜、非金属薄膜以及化合物薄膜的制备。

设备是在翔安校区新工科大楼！

主要仪器管理员: 何功汉(电话:18359269411)

工作时间:09:00-12:00;14:00-18:00

最小可预约时间段:0.5 小时

最大可预约时间段:168 小时

日历最小单位:0.5 小时

最近提前预约时间: 未授权用户: 24小时；普通资格用户: 24小时；资深资格用户: 24小时

最远提前预约时间: 未授权: 720 小时 0 点；普通: 720 小时 0 点；资深: 720 小时 0 点

最大有效预约次数:5 次/天

无代价撤销预约时间:1440 分钟

用户资格	工作时间	非工作时间
未授权资格	需审核	需审核
普通资格	免审核	需审核
资深资格	免审核	免审核

序号	标题	文件数量	添加时间	操作

序号	标题	添加时间	操作

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