脉冲激光溅射沉积是一种新型高精密制膜技术， 能生长出其他制膜设备和方法难以制备的高熔点、多元素和复杂层状结构的薄膜、异质结和超晶格材料， 是探索开发新材料新器件和进行其相关基础研究的一个平台。 该技术广泛应用于生长半导体超晶格材料，制备含有复杂氧化物结构薄膜、光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体及有机化合物等。