基本信息
- 生产厂商 阿尔卡特
- 资产编号 20060478
- 资产负责人 ----
- 购置日期2006-01-01
- 仪器价格4501054.33 万元
- 仪器产地法国
- 仪器供应商
- 购买经办人
- 主要配件 设备性能：适用于4英寸硅片刻蚀；使用气体有：SF6 ，C4F8 ，O2。同时兼有Bosch（常温）工艺和Cryo（冷冻）工艺。
- 主要参数2.5µm线宽沟道刻蚀
二氧化硅掩膜厚度1.5µm
被刻蚀暴露面积20%
刻蚀深度50µm
刻蚀速率>2µm/min
对二氧化硅的选择比>100:1
侧壁角度90°±1°
侧壁不平整度<300nm
掩膜层下的侧向腐蚀<300nm
圆片内的刻蚀不均匀性<±5%
圆片与圆片间的刻蚀不均匀性<±5%
